標(biāo)準(zhǔn)型水滴角測量儀的應(yīng)用

標(biāo)準(zhǔn)型水滴角測量儀的應(yīng)用

我司【KD-705A標(biāo)準(zhǔn)型水滴角測量儀】可用于如下領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究，應(yīng)用新方法，產(chǎn)品設(shè)計以及品質(zhì)控制等。

TFT-LCD面板行業(yè)：玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測量；TFT打印電路、彩色濾光片、 ITO導(dǎo)體膠卷等前涂層質(zhì)量測量；半導(dǎo)體，平面顯示器、光學(xué)行業(yè)掩膜親水性測量。

印刷、塑膠行業(yè)：表面清潔與附著質(zhì)量測量；油墨附著度測量；催化劑測量；膠水膠體性質(zhì)相容性測量；染料的緊扣度。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)：晶圓的潔凈度測量；HMD的處理控制；CMP的研究測量、光阻與顯影劑的研究。

化學(xué)材料研究：防水與親水性能材料研究探討；表面活性與清潔劑的張力、濕性；黏性增強(qiáng)與附著表面能測量。

IC封裝：基質(zhì)表面潔凈度；原子合成氧化識別；BGA焊接表面；環(huán)氧化物的附著度測量。

紙張、紙尿褲、衛(wèi)生護(hù)墊等材料的吸水性以及可印刷性等性質(zhì)分析；

纖維、織物、碳纖維、玻璃纖維與樹脂的新功能開發(fā)、表面性質(zhì)、印染等性質(zhì)分析；

液晶屏、硬盤、屏幕保護(hù)膜、觸摸屏、LCD、LED、光學(xué)零件、半導(dǎo)體芯片、Wafer、微電子等行業(yè)表面清潔度分析以及品質(zhì)控制、新材料開發(fā)研究以及等離子（Plama）處理等表面處理效果評估；

聚合物、高分子材料及金屬材料表面修飾、表面改性、印刷性質(zhì)等分析；

薄膜、偏光片、膠片、感光材料的新材料開發(fā)、印刷性等分析；

生物材料、仿生材料的研發(fā)及其應(yīng)用分析，如檢測和表征蛋白質(zhì)、肺表面活性劑、表征生物相容性材料（高分子材料）的潤濕和粘附性、競爭以及粘附的蛋白質(zhì)。

食品工業(yè)、醫(yī)藥：如人造骨、隱形眼鏡、眼鏡玻璃的潤濕、吸附性質(zhì)分析；

超疏水和超親水材料的研究、可潤濕性分析；

空調(diào)親水鋁箔、絕緣子、巖芯、煤礦、瀝青的潤濕性分析以及新材料的研發(fā)；

電潤濕接觸角轉(zhuǎn)化、電透鏡研究等；

表面活性劑應(yīng)用研究，如化妝品、清潔劑、乳液、石油行業(yè)（三次采油）等；

噴霧、農(nóng)藥、油漆、墨水、油墨和涂料行業(yè)配方設(shè)計及潤濕性分析；

大學(xué)實驗室研發(fā)、課題、研究等；

新表面表征、表面純度測試、固體表面處理評價、液體配方設(shè)計、表面清潔度分析、等離子清洗效果分析、固液體之間或固體黏駙特性研究、表面印刷性能的表征、玻璃（包括塑料或金屬等固體）表面潤濕性研究、分析表面改性等。